中国上海

10PM – 6PM

ZnO—GaN薄膜的良好衬底

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氧化锌(ZnO)是GaN薄膜的良好衬底。它在室温下具有60 meV的大激子结合能和3.73 eV的带宽,使其成为紫外光和可见光的发光材料。由于其在可见光区域的透明性、大的机电耦合系数以及气体分子在其表面的吸附和解吸特性,有望用于高峰值能量的能量限制器、大尺寸和高质量的GaN衬底、,未来超过5GHz的无线通信、高电场设备、高温高能电子设备等。

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使用/应用

用于紫外线和可见光的发光材料。
高电场设备。
高温高能电子器件。
高效半导体光电子器件、半导体光催化和稀磁半导体。

特点/优势

激子结合能高达60mev;
在可见光区域透明;
机电耦合系数大。

  • 参数

    结构 六方
    晶格常数 a=3.252Å    c=5.313 Å
    密度 5.7(g/cm3
    生长方法 Hydrothermal
    莫氏硬度 (Mho) 4(mohs)
    熔点 1975℃
    热膨胀系数 6.5 x 10-6 /℃//a     3.7 x 10-6 /℃//c
    比热 0.125 cal /g.m
    热电常数 1200 mv/k @ 300 ℃
    热导率 0.006 cal/cm/k
    透过范围 0.4-0.6 um > 50% at 2mm

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2024-12-29 23:49:14
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