氟化锂晶体的透射率在真空紫外110nm到红外6.0μm之间，是真空紫外区透射率最好的材料。该晶体广泛用于制备紫外-可见-红外领域的光学窗口、透镜、棱镜和折射元件。低折射率允许晶体直接使用，无需防反射涂层。氟化锂晶体也可用作X射线探测器晶体，以及OLED显示屏的涂层材料。我们可以提供通过拉法和下降法生长的高质量氟化锂单晶。
使用/应用
LiF被广泛用于制备紫外-可见-红外领域的光学窗口、透镜、棱镜和折射元件。
可直接使用，无需防反射涂层。
氟化锂晶体也可用作X射线探测器晶体，以及OLED显示屏的涂层材料。
特点/优势
氟化锂晶体的透射率在真空紫外110nm到红外6.0μm之间，是真空紫外区透射率最好的材料。
它的折射率很低。
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参数
晶体结构 立方 晶格常数 a=4.026 Å 熔点（℃） 870 密度（g/cm3） 2.635 硬度 4.0（mohs） 热膨胀系数 37.0 x 10-6 /K 折射率 n=1.39 透过波段 0.11-7.00 μm 透 过 率 > 90% @0.2~4.5 μm; 色彩离差Hf-Hc 0.00395 温度系数dh/dt x 10-6 12.7 @0.6 m 晶体生长方法 Bridgeman或者CZ 解理面 <100> 尺寸 10*10，20*20，30*30，Ø50.8mm 厚度 0.5mm，1.0mm 或者根据客户要求定做 抛光 单面或双面 晶面定向精度: ±0.5° 边缘定向精度: 2°（特殊要求可达1°以内） Ra: ≤10Å（5µm×5µm） 包装 100级洁净袋，1000级超净室