碳化硅衬底的晶向判断需结合晶体学原理与实验技术,具体方法可分为以下三类:

一、X射线衍射法(XRD)
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原理
- 基于布拉格定律(),通过测量X射线在晶面衍射的角度,计算晶面间距,从而确定晶向。
- 六方晶系的碳化硅(如4H-SiC、6H-SiC)需计算晶面指数与晶胞参数、的关系(公式:)。
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操作步骤
- 固定X射线波长,调整样品与探测器的角度θ,记录衍射峰位置;
- 通过衍射峰对应的θ值,结合布拉格方程和晶胞参数,推导晶面指数。
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适用场景
- 高精度晶向测定(误差<0.1°),适用于晶锭定向、外延工艺前的晶片校准。
二、激光定向技术
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原理
- 利用激光在特定晶面的反射特性,通过检测反射光束的路径和强度差异判断晶向。
- 对于4H-SiC等材料,主定位边与副定位边的加工需结合晶向标记。
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操作步骤
- 将激光束垂直入射至衬底表面,调整衬底角度至反射光斑达到最大强度;
- 通过光斑位置或光强分布确定晶面方向。
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适用场景
- 快速定位晶向(如线切工序前的晶片校准),精度略低于XRD但效率更高。
三、化学腐蚀法(辅助验证)
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原理
- 不同晶面的原子排列密度与化学活性不同,导致腐蚀速率差异。例如:
- Si面(0001):腐蚀速率较慢,表面更平整;
- C面(000-1):腐蚀速率较快,易形成台阶状形貌。
- 不同晶面的原子排列密度与化学活性不同,导致腐蚀速率差异。例如:
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操作步骤
- 将衬底浸入熔融KOH或混合酸(如HF:HNO₃)中,控制温度和时间;
- 通过光学显微镜或原子力显微镜(AFM)观察腐蚀后表面形貌,判断晶向。
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适用场景
- 实验室快速区分Si面与C面,常用于外延工艺前的晶面验证。
注意事项
- 晶面定义与晶向关系
- 4H-SiC的(0001)晶面为Si面,(000-1)晶面为C面,晶向由键合原子的排列方向决定。
- 应用关联性
- 晶向偏差会直接影响外延层质量(如位错密度、薄膜均匀性),需结合XRD与工艺需求综合校准。
通过以上方法,可系统判断碳化硅衬底的晶向,满足器件制造对晶体方向的高精度要求。
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